日本一個研究小組4月2日宣布，他們發(fā)現(xiàn)紫外線敏感性綜合征的一個致病基因，這一發(fā)現(xiàn)將有助于今后弄清人的皮膚被曬傷的機制，從而研究出相關(guān)防曬傷的新方法。該成果已刊登在《自然—遺傳學(xué)》雜志網(wǎng)絡(luò)版上。

日本長崎大學(xué)和佳麗寶公司的聯(lián)合研究小組在東京宣布，這項研究開展于2010年7月，他們通過利用能在短時間內(nèi)對人類基因組DNA序列進行解析的最新技術(shù)——下一代基因序列解析法，確定了一個可能是紫外線敏感性綜合征患者致病原因的基因變異。研究人員發(fā)現(xiàn)，由于這個基因出現(xiàn)變異，導(dǎo)致無法產(chǎn)生對受損的DNA進行快速修復(fù)的蛋白質(zhì)，或者產(chǎn)生的量非常少，研究小組將這種基因命名為UVSSA。研究人員對紫外線敏感性綜合征患者進行基因修復(fù)后，肌體對DNA進行快速修復(fù)的功能恢復(fù)到了與健康人同等的水平。

研究人員高橋慶人指出，紫外線敏感性綜合征除了強烈日曬癥狀外基本沒有其他癥狀，是一種輕度的遺傳性光敏性疾病，發(fā)現(xiàn)30多年來其致病原因一直未解。今后通過對該基因進行詳細分析，將有助于開發(fā)出防止皮膚被曬傷的新方法。